25 ноября ведущая китайская технологическая фирма Huawei начала продажи своей новой серии смартфононов Mate80. Согласно ИИ Обозрению (AI Overview), кратко описывающему это событие, "новая серия смартфонов Mate80 использует процессоры (CPU) Kirin 9030 и Kirin 9030 Pro, базирующиеся на 5нм (5 нанометров) технологии; также они используют новую версию ОС HarmonyOS 6, созданную Huawei".
Получается, Китай вышел, наконец, на уровень 5нм. На Западе это считалось почти невозможным.
Посмотрим сообщение авторитетного технологического сайта notebookcheck.net: "Новая модель смартфона фирмы Huawei Mate 80 Pro Max демонстрирует высокие характеристики: используемый здесь SoC (System-on-Chip, система на одном чипе) Kirin 9030 показал при испытании в (стандартной измерительной) системе Geekbench, характеристики (базовую скорость) на 35% превосходящие характеристики процессора Huawei предыдущего поколения Kirin 9020.
Этот новый процессор изготовлен шанхайской фирмой SMIC (Semiconductor International Corp., крупнейший и самый передовой производитель СБИС в Китае) с использованием процесса N+3 ("тройное наложение" в литографической машине, в ходе изготовления процессора). Впервые в Китае удалось наладить серийное изготовление процессора (и вообще больших интегральных схем) уровня 5нм. Разработка данного процессора фирмы Huawei и SMIC начали (весной) 2024 года. Плотность транзисторов чипа Kirin 9030 составляет 125 Mtr/mm2 (миллионов транзисторов на квадратный миллиметр). Это большой прорыв китайской наноэлектроники, хотя новый процессор еще сильно отстает от лучших процессоров тайваньской TSMC, южнокорейской Samsung и ведущих американских фирм."
Надеюсь, читатели, я не слишком утомил вас цифрами и техническими терминами? К сожалению, без них нельзя. А теперь немного истории. Но сначала расскажу что такое DUV и EUV.
DUV (Deep Ultravioviolet) литографические машины (ЛМ) были созданы нидерландской фирмой ASML (до недавнего времени мировой монополист в сфере ЛМ) примерно в 2010 году и были использованы для изготовления ультра-СБИС уровня 28нм и 14нм. Главной ее особенностью было использование источника света с длиной волны в 192 нм.
EUV (Extreme Ultravioviolet) ЛМ (ЛМ новейшего поколения) были созданы фирмой ASML в 2016-17 годах. Они были использованы для изготовления ультра-СБИС уровня 7нм, 5нм и 3нм. Главной ее особенностью было использование источника света с длиной волны в 13,5 нм. Именно это позволило Западу сделать новый технологический рывок в сфере наноэлектроники.
Что особенно важно, Китай ввозил DUV ЛМ фирмы ASML, по крайней мере, до конца 2023 года; и ввез их на многие миллиарды долларов. А поставки EUV ЛМ в Китай с самого начала были жестко блокированы властями США и Нидерландов.
В 2019 году фирма SMIC впервые в Китае освоила производство СБИС уровня 14нм (процессоры и другие СБИС), базируясь на импортных DUV ЛМ. В тот момент китайские СМИ оценивали это как "важный технологический прорыв Китая".
До этого в Китае производились лишь СБИС уровня 28нм, с помощью импортных ЛМ. Что ее важнее, до конца 2023 года Китай самостоятельно изготавливал только "старые" ЛМ (сильно отстающие от DUV ЛМ), пригодные лишь для изготовления СБИС уровня 190нм – 200нм, и не лучше.
Ситуация резко изменилась лишь в начале 2024 года, когда в Китае был создан первый экспериментальный экземпляр DUV ЛМ, названный SSA800 и способный изготовлять СБИС уровня 28 нм. Разумеется, это была "улучшенная копия" импортных DUV ЛМ фирмы ASML. Обратите внимание, "прыжок" в сфере ЛМ от 190нм до 28нм!
SSA800 создали совместно Huawei, SMIC и, главное, фирма SMEE (Shanghai Microelectronics Equipment.
В создании SSA800 приняли участие несколько профильных институтов АН Китая, ведущие университеты Китая, всего больше десятка организаций. В течение 2024 года и первой половины 2025 года завод SMEE осваивал мелкосерийное производство ЛМ SSA800. "Создание ЛМ SSA800" несколько раз оказывалось в "списке главных достижений НИОКР Китая в 2024-25 годах" (вместе с созданием магистрального пассажирского самолета С919", "новыми технологиями переработки угля в нефтепродукты и этиловый спирт" и пр.). При этом каждый раз отмечалось, что "доля китайских компонентов в SSA800 постепенно растет" и указывались цифры (55%, 60%, вплоть до "более 70%" в сентябре 2025 года). В частности, китайские предприятия освоили выпуск источников света с длиной волны 192 нм и 184 нм.
В августе 2023 года SMIC, при поддержке Huawei, освоила серийное производство чипов Kirin 9020, с уровнем 7нм. Здесь применялись импортные DUV ЛМ, предназначенных для изготовления 14нм чипов, по способу SAQP – "двукратное наложение" или способ N+2. Чип Kirin 9020использовался в качестве CPU новой серии смартфонов Huawei Mate60.
Западные технологические СМИ оценили серийного производство чипов Kirin 9020 и смартфонов Mate60 как "важный технологический прыжок Китая". Отставание Китая от передового западного уровня, по оценке этих СМИ сократилось с 12 лет (или даже больше) до примерно 7 лет.
В ноябре 2024 года SMIC, при поддержке Huawei, освоила серийное производство несколько улучшенных чипов Kirin 9020, все еще уровня 7нм (одно время утверждалось, что достигнут уровень 6нм, но это не подтвердилось). Эти чипы использовалось в качестве CPU новой серии смартфонов Huawei Mate70.
Смартфоны серии Mate70 существенно превосходили смартфоны серии Mate60 по главным показателям, но это не стало "большим технологическим прорывом". Отставание Китая от передового западного уровня почти не сократилось.
И наконец, 25 ноября 2025 года (как упоминалось выше) начались продажи смартфонов новой серии Huawei Mate80, оснащенных CPU Kirin 9030 уровня 5нм. Они изготовляются по способу N+3 (вместо прежнего N+2). По предварительным оценкам, отставание Китая от Запада в этой области сократилось примерно до 5 лет (!).
(Я мог бы привести десятки источников на китайском и английском языках, но не хочу запутывать читателей.)
Какие ЛМ используются в производстве чипов Kirin 9030: импортные DUV ЛМ, производства нидерландской ASML, или же китайские ЛМ SSA800 (возможно, улучшенного типа)? Очевидно, и те и другие.
Что произойдет в ближайшем будущем? Для начала, Китай полностью освоит собственное серийное производство DUV ЛМ, включая лучшие модели этой серии.
Одновременно, фирма Huawei (по крайней мере, с середины 2024 года) интенсивно продвигает разработку EUV ЛМ, что необходимо для массового производства чипов уровня 3нм. Успех этой разработки будет означать почти полную ликвидацию отставания Китая от Запада в сфере нанотехнологии. Почти во всех остальных областях НИОКР отставание уже отсутствует.
Слава Украине! Смерть рашистским оккупантам! Гибель путинскому режиму!
